Китай наладил серийный выпуск DUV-литографов: первыми получателями стали SMIC, Hua Hong и ChangXin.

Начало массового выпуска DUV-литографического оборудования в Китае

Как сообщает ITC.ua — Техно: Запрет на сотрудничество с ASML, введённый резолюцией Палаты представителей США № 8170 (принятой в рамках законопроекта MATCH Act 22 апреля 2023 года), затронул таких гигантов, как SMIC, Hua Hong Semiconductor, ChangXin Memory Technologies, а также Huawei и YMTC. Теперь китайская государственная компания из Шанхая приступила к серийному выпуску установок DUV-литографии, работающих на иммерсионном излучении. Именно эти предприятия первыми получат новое оборудование.

В 2023 году планируется произвести 5 таких систем, а в 2024-м — порядка 20. Технология Immersion DUV позволяет формировать элементы с разрешением 28 нм за один цикл экспозиции. Для сравнения: ASML, контролирующая 98,7% мирового рынка иммерсионной литографии, намерена поставить в 2023 году около 130 систем. При этом на Китай приходится примерно 20% чистой прибыли этой голландской компании.

Последствия для полупроводниковой отрасли

Запуск собственного производства DUV-литографов способен кардинально изменить расклад на рынке микросхем: технологии, ранее доступные только через ASML, теперь становятся достоянием китайских контрактных производителей, что расширяет их возможности даже в условиях международных санкций. Тем не менее долгосрочная зависимость от зарубежных разработок и компонентов остаётся серьёзным вызовом — Пекин стремится к полной автономии в полупроводниковой сфере.

Ожидается, что коммерческое внедрение иммерсионной ультрафиолетовой литографии в Китае произойдёт в середине 2030-х годов. Для российского контекста важно понимать: DUV-литография с иммерсией — базовый инструмент производства чипов по техпроцессам от 28 нм и выше, и её локализация может со временем повлиять на глобальные цепочки поставок.